Основой технической политики предприятия ООО «Арттехмонтаж» является интегрированный подход по всем элементам бизнес-процесса создания электронного оборудования. Единая технологическая цепочка, включающая в себя логистику, производство и техническую поддержку, ориентирована на выпуск малых и средних партий продукции.
Интересно
Защитный рисунок.
Защитный рисунок на заготовках плат получали фотохимически, используя жидкие фоторезисты (их в то время называли фотоэмульсиями) на основе желатины, а позднее на основе поливинилового спирта (ПВС) (спирт поливиниловый 70-100% г/л, хромовокислый аммоний 10-15 г/л). Нанесение фоторезиста на заготовки плат, выравнивание его и подсушка, производилась вращением заготовок на центрифуге. Экспонирование изображения осуществлялось от ртутно-кварцевых ламп с использованием позитива при электрохимическом способе изготовления плат и негатива при способе вытравливания. Проявление изображения выполнялось в теплой воде.
Отмывка печатных узлов. Часть II. Рекомендации по выбору процесса отмывки, (Компоненты и технологии №7'2004)
Повышение сложности изделий, уменьшение расстояний под корпусами компонентов до 50–100 мкм, применение сложных компонентов (BGA, μBGA, CSP) и сверхмалых корпусов чип'компонентов (0402, 0201) диктуют новые требования к процессу отмывки. Требуется очень тщательный подбор технологических режимов, оборудования и материалов.