Основой технической политики предприятия ООО «Арттехмонтаж» является интегрированный подход по всем элементам бизнес-процесса создания электронного оборудования. Единая технологическая цепочка, включающая в себя логистику, производство и техническую поддержку, ориентирована на выпуск малых и средних партий продукции.
Интересно
Таким образом, продукция фирмы ELO-CHEM - установка EZ-3000 позволяет при травлении достигать следующих результатов:
- использование одного раствора в замкнутом цикле до 3-х лет
- возможность обработки печатных плат как сухим пленочным фоторезистом, так и с покрытием ПОС или оловом на одной травильной установке
- высокая экологичность (полное отсутствие отходов и вредных выбросов )
- простое подсоединение к любым травильным установкам
- точное автоматическое поддержание рН ± 0,1
- восстановление меди вследствие прямого электролиза травильного раствора
- получение меди в виде пластин
- регенерация травильного раствора с помощью кислорода воздуха
- автоматическая система контроля концентрации меди в травильном растворе
- компактный дизайн модульной конструкции (занимает площадь всего около 1,5 кв.м)
- полная автоматизация процесса регенерации.
метод попарного прессования;
метод послойного наращивания;
метод сквозных отверстий;
комбинированный метод.
Общим для всех этих методов является прессование заготовок (ядер) в единую монолитную конструкцию с помощью прокладочной стеклоткани. Заготовки для прессования (ядра) представляют собой тонкие двусторонние платы, на которых уже выполнен рисунок внутренних слоев.
Для способов послойного наращивания и металлизации сквозных отверстий ядра изготавливаются химическим субтрактивным методом. При этом отсутствует операция сверления, а в качестве защитного покрытия при травлении применяются высококачественные фоторезисты, которые обеспечивают высокое разрешение проводящего рисунка и высокое качество изготовления.
При создании ядер методом попарного прессования применяется комбинированный позитивный метод формирования проводящего рисунка. Этим же методом формируется топология внешних слоев МПП.